化(hua)學鍍(du)銅技術(shu)起(qi)始于(yu)1947年，Narcus首先報(bao)道了(le)化(hua)學鍍(du)銅溶(rong)液(ye)(ye)化(hua)學。初始階段化(hua)學鍍(du)銅液(ye)(ye)的穩定性很差，溶(rong)液(ye)(ye)易自動(dong)分解，且施鍍(du)范圍不(bu)能控制(zhi)，所有與溶(rong)液(ye)(ye)接觸的地(di)方都(dou)有沉積物。而真正意義上的商(shang)品化(hua)學鍍(du)銅出現(xian)(xian)于(yu)20世紀50年代(dai)，隨著印制(zhi)線路板(PCB)通孔(kong)金屬化(hua)的發展(zhan)，化(hua)學鍍(du)銅得到(dao)了(le)早的應用。 個類似現(xian)(xian)代(dai)的化(hua)學鍍(du)銅溶(rong)液(ye)(ye)由Cahill公(gong)開發表于(yu)1957年，鍍(du)液(ye)(ye)為(wei)(wei)堿性酒石(shi)酸銅鍍(du)浴，甲醛為(wei)(wei)還原劑(ji)。現(xian)(xian)在，經(jing)過50多(duo)年的開發研(yan)究，形成了(le)相對(dui)完善的化(hua)學鍍(du)的溶(rong)液(ye)(ye)化(hua)學知識以及工(gong)藝技術(shu)基礎，并建立(li)了(le)初步的基礎理論(lun)體系。

化學鍍銅是在有(you)鈀等(deng)催化活性(xing)物質(zhi)的表面，通過甲醛等(deng)還原劑(ji)的作(zuo)用，使銅離子還原析(xi)出。化學鍍銅相對于電(dian)鍍銅的優勢主要有(you):①基體(ti)范(fan)圍廣泛;②鍍層厚度均勻(yun):③工(gong)藝(yi)設備簡單:④鍍層性(xing)能良好。

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